レンズラッピング: 2000 メッシュ SiC 88% と 90% – どちらがよりクリアな仕上がりになりますか?

Feb 07, 2026

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で精密光学部品の製造レンズのラッピングは、研磨前の最後の研磨ステップであり、以前の研削による表面の欠陥がサブミクロンレベルまで低減され、高透明度の研磨の準備が整います。炭化ケイ素（SiC）は、その硬度と制御可能な破壊のため、微細なラッピング段階で使用されることがあります。よくある比較としては、2000メッシュSiCで純度88%対純度90%。メッシュサイズによって粒子の寸法 (約 6 ～ 7 μm) が決まりますが、純度の違い研磨剤がどれだけきれいに切断されるか、また表面に埋め込まれた残留物がどれだけなくなるかを変更します - は、直接影響します光学的透明度完成したレンズの様子。

で鎮安、と30年の経験精密光学部品に SiC を供給する当社では、どの純度がよりクリアなレンズ仕上げをもたらすかを分析し、その基礎となるメカニズムを説明します。

1. 光学的な透明度を高めるためのレンズラッピングの目標

ラッピングでは、次の方法でレンズ表面を準備します。

粗研削による表面下の損傷の除去

の作成均一で細かい表面質感最小限の深い傷あり

避ける埋め込まれた研磨粒子飛散や曇りの原因となるもの

確保する低い表面下の応力研磨時の変形を防ぐため

最終的に研磨された表面は、清潔で滑らかで、透過または反射画像の品質を低下させる汚染物質が含まれていない必要があります。

2. 2000 メッシュ SiC – 微細な研磨特性

2000メッシュ≈ 6 ～ 7 μm の粒子 - は非常に細かく、高精度光学部品の研磨前の最終ラッピングに使用されます。

細かい粒子により除去される材料は最小限に抑えられますが、研磨によって回折限界の明瞭さが得られるレベルまで表面トポグラフィーが洗練されます。

この規模では、研磨性の清浄度と形状の一貫性生の切断力よりも重要です。

メッシュを固定した状態で、純度が残留物の形成と表面汚染を制御します.

3. 純度への影響: 88% 対 90% SiC

88% SiC: ~12% の不純物 (シリカ、遊離炭素、金属酸化物)。

90% SiC: ~10% の不純物 → 質量当たりの実際の SiC が増加し、非 SiC 相が減少します。

不純物が光学的な透明性を低下させる仕組み

埋め込まれた粒子: 不純物は多くの場合、より柔らかいか、形状が異なります。それらはレンズ表面に埋め込まれ、微視的な散乱中心を作成することができます。

残渣フィルム: ラッピング後にシリカとカーボンの残留物が残り、光を散乱させる曇りを形成することがあります。

不規則な切断：不純物は不均一な破壊を引き起こし、研磨だけでは完全に除去できない深いランダムな傷を残します。

表面粗し：混合硬度の粒子が摩擦を増加させ、マイクロピッチングを誘発し、滑らかさを低下させます。

純度の向上により透明度が向上する仕組み

よりクリーンなカッティング: 不純物が少ないほど、SiC の破壊がより均一になり、より細かく均一な傷が生成されます。

残留物が少ない：シリカ/カーボン含有量が低いため、ラッピング後のヘイズが減少します。

埋め込みの削減: 純粋な SiC 粒子は表面に滞留しにくく、散乱中心を最小限に抑えます。

予測可能な地形：均一な粒子の作用により、欠陥のない研磨が可能な表面が得られます。

4. レンズの鮮明さの比較性能

要素	2000 メッシュ SiC 純度 88%	2000 メッシュ SiC 純度 90%
不純物含有量	高い (~12%)	低い (~10%)
埋め込まれた粒子	可能性が高い	可能性は低い
残留物/ヘイズの形成	より高い	より低い
スクラッチの均一性	均一性が低い (ランダムな深い傷)	より均一な(細かい、一貫したマーク)
表面平滑度前研磨	より低い	より高い
研磨後の光学的透明度	良好ですが、飛び散りや曇りが見られる場合があります	よりクリアに(透過率が高く、散乱が少ない)
手戻り率	より高い	より低い

結論: 純度90%を与えるよりクリアなレンズ仕上げ埋め込まれた粒子や残留物を最小限に抑え、最終研磨のためのよりきれいでより均一な表面を保証するためです。

5. 純度が高いほど透明度が高まる理由

均一なスクラッチパターン: 純粋な SiC は均一に破壊され、平行化可能な微細な跡が残り、完全に研磨されます。

光散乱の減少：埋め込まれた不純物が少なく、残留物が少ないということは、光が回折または吸収される点が少ないことを意味します。

よりきれいな表面処理: ナノメートルスケールの欠陥でも性能が低下する高 NA レンズ、レーザー光学系、イメージングシステムに不可欠です。

精密光学部品では、透明度は最終研磨だけでなく、研磨面の品質- の高純度 SiC により、可能な限り最高の基板から研磨段階を開始できるようになります。

6. 実際の選択ガイドライン

ハイエンド光学系 (レーザー、イメージング、天文学)→ 使用する90% SiC最小の散乱と最高の透過率を実現します。

標準民生用光学機器→ コストの制約がある場合は 88% SiC で十分かもしれませんが、透明度は若干低くなります。

汚染に敏感な用途→ ラッピング後の洗浄の問題を回避するには、より高い純度が不可欠です。

プロセスの統合→ 超清浄なラッピングプレートとろ過されたスラリーを組み合わせて、高純度 SiC の利点を最大限に引き出します。

コストと収量→ 90% SiC により、高価値光学部品製造におけるやり直し作業が削減され、初回通過歩留まりが向上します。

7. 業界の例

レーザー集光レンズを製造する光学部品メーカーは、2000 メッシュの SiC を 88% から 90% に切り替えました。

曇りに関する苦情を軽減60%最終テスト中

理論上の限界に近いMTF（変調伝達関数）値を達成

やり直し作業が半分に減り、生産時間を節約できます

8. 精密光学SiCにZhenAnを選ぶ理由

30年光学ラッピングおよび研磨用の超微細高純度 SiC 製造に関する専門知識

メッシュサイズ (2000 メッシュ ±0.5μm) と純度 (88% ～ 99.9% のグリーン SiC) を正確に制御

ISO および SGS 認証を取得し、不純物および残留レベルが低い

カスタムのスラリー配合と粒子コーティングによるクリーンな取り扱い

精密光学 OEM および研究機関をサポートする世界的な供給

結論

のために2000メッシュSiCによるレンズラッピング, 純度90%を与えるよりクリアな仕上がり純度88%以上。主な理由は、不純物含有量が低いこれにより、埋め込まれた粒子や残留物が減少し、よりきれいで均一な表面が保証され、より高い光学的透明度まで研磨されます。これは、微細な欠陥さえも画質に影響を与える高性能光学部品にとって非常に重要です。

レンズのラッピングプロセスにおける SiC メッシュと純度の選択に関する専門家のアドバイスについては、弊社の光学専門家にお問い合わせください。

📧 market@zanewmetal.com