パワーエレクトロニクス用シリコンメタル
重要な半導体材料としての金属シリコンは、パワーエレクトロニクスの分野でますます広く応用されています。 金属シリコンは多くの優れた物理的、化学的、電気的特性を備えており、パワーエレクトロニクスにとって理想的な材料となっています。 この論文では、金属シリコンの物理的特性とパワーエレクトロニクス分野におけるその応用について詳しく説明します。
説明
説明
金属ケイ素の結晶構造はダイヤモンド型構造であり、各ケイ素原子は隣接する 4 つの原子と共有結合を形成し、六角形の層状構造を形成します。
この構造により、シリコン金属は優れた熱安定性と機械的強度を備えています。
金属シリコンは価電子帯と伝導帯の間に 1.12eV のギャップがあり、高い抵抗率と低い導電率を与えます。
同時に金属シリコンはバンドギャップが狭く、電子励起が起こりやすいため、光電変換性能が優れています。
シリコン金属結晶には点欠陥、線欠陥、表面欠陥などのさまざまな欠陥が存在し、電気的および熱的特性に影響を与えます。
このうち、点欠陥は最も一般的な欠陥であり、不純物原子、空孔原子、ギャップ原子などが含まれます。
仕様
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学年 |
421 |
3303 |
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Si 以上 |
99パーセント |
99パーセント |
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Fe 以下 |
0.40パーセント |
0.30パーセント |
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Al 以下 |
0.20パーセント |
0.30パーセント |
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Ca 以下 |
0.10パーセント |
0.03パーセント |
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サイズ |
45-325メッシュ、-200メッシュ、-325メッシュまたはご注文に応じて |
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金属シリコンは優れた化学慣性を持ち、室温で安定しており、化学物質によって腐食されにくいです。
この化学的不活性により、金属シリコンは高温、高圧、放射線などの過酷な作業環境でも安定して機能します。
金属シリコンは化学的に不活性ですが、特定の条件下では化学反応が発生する可能性があります。
たとえば、高温では、金属シリコンが酸素と反応して二酸化シリコンを形成します。これは酸化と呼ばれる反応です。
特定の条件下では、金属シリコンはフッ化物、フッ化水素酸、その他の物質と反応して、フッ素化ケイ酸、フッ化ケイ素、その他の化合物を形成することもあります。
よくある質問
Q:どうやって連絡すればいいですか?
A:電子メールまたはWhatspp/Wechatを通じてご連絡いただけます。
Q: 工場ですか、それとも商社ですか?
A: 私たちはメーカーです。
Q: 納期はどれくらいですか?
A: 納期は購入数量と生産時期によって異なります。
Q：配送方法は何ですか？
A: ご要望に応じて速達便、船便もご利用いただけます。
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