タングステンスパッタリングターゲット

ZhenAn タングステン スパッタリング メーカー

タングステンスパッタリングの説明

スパッタリングされたターゲット（カソード）とアノードの間に直交磁場と電場が加えられ、必要な不活性ガス（通常はArガス）が高真空チャンバー内に充填されます。 電界の作用下で、Ar ガスは正イオンと電子にイオン化され、ターゲットに一定の負の高電圧が加えられます。

ターゲットから放出された電子は磁場の影響を受け、作動ガスのイオン化確率が増加し、カソード付近に高密度のプラズマが形成されます。

Ar イオンはローレンツ力によって駆動されます。 ターゲット表面に向かって加速し、非常に高速でターゲット表面に衝突するため、ターゲット上にスパッタされた原子は運動量変換の原理に従い、高い運動エネルギーでターゲット表面から基板に向かって飛翔し、成膜を行います。

ZhenAn は、スパッタリング ターゲット、蒸発源、その他の蒸着材料を包括的に提供しており、サイト全体で材料ごとにリストされています。 お客様の要件に合ったスパッタリング ターゲットおよび蒸着材料の予算価格を以下から見つけてください。 実際の価格は市場の変動により異なる場合があります。

タングステン (W) の一般情報

タングステンとしても知られるタングステンは、世界で最も密度の高い元素の 1 つです。 密度は 19.3 g/cc、融点は 3,410 度、蒸気圧は 2,757 度で 10-4 Torr です。

外観はオフホワイトで光沢があります。 すべての金属の中で最も高い融点を持つことが知られており、その特有の硬さにより、そのままの形での機械加工や鍛造が困難になります。

タングステンは、電気フィラメントの製造に一般的に使用されます。 炭化タングステンは、ドリルビット、鋸、宝飾品に含まれています。 タングステンは真空下で蒸発させられ、半導体、燃料電池、センサーの製造に使用されます。